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電感耦合等離子體質(zhì)譜儀介紹:

電感耦合等離子體質(zhì)譜（ICP-MS）被稱為自二十世紀(jì)以來zui激動人心的分析技術(shù)，具有檢出限低、動態(tài)線性范圍寬、干擾少、分析精度高、分析速度快、可進(jìn)行多元素同時測定等優(yōu)異的分析性能，已成為痕量和超痕量分析zui為有效的分析手段之一。 在*《國家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項》的支持下，鋼研納克針對冶金、環(huán)保、地質(zhì)、礦產(chǎn)、食品等領(lǐng)域?qū)哿糠治黾夹g(shù)的需求，以滿足行業(yè)應(yīng)用需求為目標(biāo)，攻克了ICP射頻電源、離子傳輸、四極質(zhì)量分析器等關(guān)鍵技術(shù)，成功地研制了電感耦合等離子體質(zhì)譜儀——PlasmaMS 300。   

基于PlasmaMS 300，鋼研納克與國家環(huán)境分析測試中心、國家地質(zhì)實驗測試中心、北京礦冶研究總院、鋼鐵研究總院、北京市理化分析測試中心等測試機(jī)構(gòu)合作，開發(fā)了適合各行業(yè)的分析測試方法，解決了環(huán)境介質(zhì)中痕量重金屬元素檢測，地質(zhì)礦產(chǎn)中稀土、稀有、稀散元素分析，二次資源中有價有害元素的分析，金屬材料中的痕量化學(xué)成分及其分布分析，食品中有毒、有害元素不同形態(tài)、價態(tài)分析等技術(shù)難題。

電感耦合等離子體質(zhì)譜儀功能特點:

的可靠性和穩(wěn)定

堅固耐用的射頻電源，集成了緊急保護(hù)措施的真空系統(tǒng)和自動化控制系統(tǒng)，以及智能一鍵操作即可完成的儀器和分析流程設(shè)置，zui大程度的消除了人為干擾，保證了儀器工作的連貫性和優(yōu)異的重復(fù)性。

高超的分析功能

匹配功能的固態(tài)光源，有效的限制了離子化過程中離子的擴(kuò)散，保證了離子的聚焦性和*的通過率。帶偏轉(zhuǎn)的離子光學(xué)系統(tǒng)保證了*的離子聚焦效果，有效的降低了背景噪聲，提高了信噪比。

強大的聯(lián)用技術(shù)

可便捷地與激光燒蝕進(jìn)樣系統(tǒng)（LA）及液相色譜（LC）聯(lián)用。結(jié)合LA的功能，可實現(xiàn)了PlasmaMS 300固體直接進(jìn)樣，避免了復(fù)雜的樣本制備過程，提高了進(jìn)樣及測試效率，擴(kuò)展了PlasmaMS 300的檢測能力，可同時測定樣品氣溶膠中主、次、痕量元素的含量。與LC聯(lián)用，可進(jìn)行有機(jī)物中元素的形態(tài)分析，進(jìn)一步擴(kuò)展了PlasmaMS 300的檢測能力和效率，提供了更全面的應(yīng)用解決方案。

人性化的操作流程

全中文的軟件界面，符合中國人的思維習(xí)慣，“一鍵式”參數(shù)設(shè)置直觀快捷，提高了用戶的工作效率。能夠根據(jù)客戶要求自定義報告格式，同時提供了QC功能及LIMS的接口。

便捷的維護(hù)

易于拆裝清洗的錐口系統(tǒng)、帶偏轉(zhuǎn)的離子透鏡系統(tǒng)，減少了離子沉積，延長了儀器的維護(hù)周期。耐用的固態(tài)光源確保了儀器的長時間*使用。依托納克遍布全國的服務(wù)網(wǎng)絡(luò)，實現(xiàn)了儀器完善的售后服務(wù)。

電感耦合等離子體質(zhì)譜儀應(yīng)用領(lǐng)域

環(huán)境分析測試領(lǐng)域

PlasmaMS 300針對地表水、廢水、土壤、沉積物、大氣（廢氣）中顆粒物、固體廢棄物等環(huán)境樣品中重金屬元素分析測試及檢測的需求，建立了整體應(yīng)用方案與分析方法。

地礦樣品測試

PlasmaMS 300靈敏度高、精度好、抗干擾能力強，是地質(zhì)樣品多元素分析zui強有力的技術(shù)。滿足了礦物三稀元素的多元素快速、準(zhǔn)確分析的需求，為“三稀”礦物資源調(diào)查和有效利用提供技術(shù)支撐。

食品安全問題

PlasmaMS 300不僅能夠有效的檢測食品和接觸性包裝材料中多種金屬元素的含量，與LC聯(lián)用，還可以有效的分離某些特定元素存在的不同價態(tài)和形態(tài)，*可以滿足食品質(zhì)量安全領(lǐng)域中的重金屬殘留分析，重金屬形態(tài)分析，以及營養(yǎng)元素分析。

金屬材料研究

PlasmaMS 300與自主研制的激光燒蝕進(jìn)樣系統(tǒng)（LA 300）聯(lián)用，能夠?qū)崿F(xiàn)小規(guī)格異形非平面材料中痕量元素的成分分布和復(fù)雜材料體系的痕量元素原位統(tǒng)計分布分析表征。